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Q-POD Element終端精制器詳細介紹

?測量技術和檢測技術的新近發展極大地提高了現代分析儀器的靈敏度。使用諸如ICP-MS技術，可以在ppt或亞ppt水平檢測痕量元素。
這些低檢測限水平技術有多種新應用，例如元素指紋識別，可用于法醫學、食品飲料工業和天體地質學等眾多不同的領域。
低檢測限水平意味著須多加注意實驗設備、操作人員、實驗室環境以及所用的樣品容器，因為這些因素都可能影響實驗結果。
分析過程中使用的超純水也是一樣。由于樣品制備需要溶解和稀釋過程，因此使用這些靈敏技術分析的樣品中90%以上是高純度的純水。高純度的純水還用于清洗裝樣品的容器，清洗塑料器具，制備空白和標準溶液。
進行痕量分析的實驗室必須有可靠的超純水來源，且該超純水必須始終保持低的元素濃度。
專門設計的Q-POD Element ，與Milli-Q Integral或Milli-Q Advantage超純水純化系統聯合使用，可以達到此目的。Q-POD Element終端精制器的設計是由精通IC、ICP-MS以及GF-AAS等痕量分析方法的科學家開發的。



Q-POD Element終端精制器技術參數：

電阻率 18.2MΩ-cm @ 25℃
元素水平 ppt或亞ppt級（參見元素列表）
顆粒 < 1/L（> 0.5 μm）
硅 < 1 ppb （AA計算得）
TOC < 5 ppb
細菌 < 0.01 cfu / ml（使用新過濾器和管路）